偉斯頓對干式自磨過程的理論進行了較長時間的研究。他對干式自磨機中礦石粉碎過程的運動情況作了如下的描述：

在干式自磨機中使礦石粉碎的主要原因有三方面：

（1）自由落下時的沖擊力；

（2）由壓力狀態(tài)突然改變張力狀態(tài)的瞬時應(yīng)力；

（3）顆粒之間的相互摩擦。

如圖所示，新給礦中的小粒，由給料端進入，沿A面均勻地落于筒體底部，然后向兩側(cè)擴散。大塊具有較大的動能，總是趨向較遠(yuǎn)的一側(cè)，但其中有一部分必然要和AB面相碰，然后向另一側(cè)返回，因之，也使大塊得到均勻分布。A——A、B——B 在這里的作用是防止給入物料有害的偏析。自排礦端沿下面返回的顆粒如同新給料中的細(xì)粒一樣，均勻地落于筒體底部的中，然后向兩邊擴散。大塊和細(xì)粒在筒體底部沿軸向運動，方向正好相反，于是產(chǎn)生磨剝作用。